专利名称：一种基于相位纵向拼接的宽光谱干涉形貌检测方法专利类型：发明专利
发明人：周毅,唐燕,陈楚仪,邓钦元,谢仲业,田鹏,李凡星,胡松,
赵立新
申请号：CN201710127224.2申请日：20170306公开号：CN106643558A公开日：20170510
摘要：本发明是一种基于相位纵向拼接的宽光谱干涉形貌检测方法，利用Mirau型白光干涉系统，通过压电陶瓷精密移动台控制干涉物镜纵向扫描移动，将采集得到的一系列宽光谱干涉图进行保存。通过频域和时域算法，将所采集到的干涉图像进行计算得到调制度分布和包裹相位分布。通过设置一个合理的调制度阈值，根据每个像素点调制度的大小来判断是否对该点进行相位展开。再利用相邻两幅图共同的有效区域来实现相位纵向拼接，最后通过一系列干涉图拼接，得到整场被测形貌的绝对相位分布，从而完成表面形貌恢复。本方法具有测量精度高，受扫描移动精度影响小，特别是针对高纵深微纳结构检测，具有测量速度快，实用性强等特点。
申请人：中国科学院光电技术研究所
地址：610209 四川省成都市双流350信箱
国籍：CN
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