专利名称：晶片清洗装置专利类型：发明专利发明人：河世根
申请号：CN201980013114.0申请日：20190311公开号：CN111712909A公开日：20200925
摘要：本发明涉及一种可以防止清洗溶液泄漏并能够及时处理的晶片清洗装置。本发明提供一种晶片清洗装置，该晶片清洗装置包括：清洗槽，该清洗槽接纳清洗溶液，并且清洗溶液由于晶片的浸入而从清洗槽中溢出；多个提升部件，该多个提升部件被布置在清洗槽的外部并且将晶盒浸入到清洗槽内的清洗溶液中；外部水箱，该外部水箱具有被接纳在其中的清洗槽和提升部件，并且包括排放孔，清洗溶液通过该排放孔排出；以及托盘，该托盘可拆卸地附接至外部水箱的内底表面并收集清洁溶液，以将清洗溶液引导至排放孔。
申请人：爱思开矽得荣株式会社
地址：韩国庆尚北道
国籍：KR
代理机构：北京派特恩知识产权代理有限公司
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