连美国都造不出的光刻机,难度究竟有多大?

发布网友发布时间：2022-04-21 08:05

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热心网友时间：2023-10-16 20:35

它需要掌握光学、机械、电子、计算机等多个领域的知识，并且需要拥有一流的制造工艺和设备，以确保光刻机的精度和稳定性。

光刻机技术是半导体产业中最为关键和核心的技术之一，用于在芯片制造过程中进行微米级别的光刻图案制造。然而由于光刻机技术具有非常高的精度和复杂度，制造难度之高可谓是令人望而却步。

所以只有少数国家能够掌握光刻机制造技术，其中包括荷兰ASML公司、日本尼康公司等国际领先企业。

光刻机制造中的微米级别的误差会严重影响芯片的制造，因此需要达到极高的精度要求。例如：ASML公司的最新款光刻机能够实现高达1.3纳米的精度，相当于人类头发丝直径的1/90。

研发成本巨大：

光刻机的研发成本非常高，需要投入大量的资金和人力，才能研发出具有全球竞争力的光刻机。例如，ASML公司的光刻机，此外，光刻机的制造也需要大量的高端设备和材料，例如高纯度的光刻胶、光刻机中的透镜和光栅等。

在光刻机技术方面，荷兰ASML公司是全球最为领先的企业之一。据统计，截至2021年底，ASML公司已经在全球范围内出售了超过1600台光刻机，占据了全球光刻机市场的80％以上。尼康公司、CANON等公司也在光刻机技术领域拥有一定的优势。