中国的光刻机与刻蚀机已经达到世界先进水平，为什么有些人还说中国芯片业依旧前路艰辛？
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发布时间：2022-04-19 10:01
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时间：2023-10-24 01:15
据媒体报道，2018年12月，中微半导体设备（上海）有限公司自主研制的5纳米等离子体刻蚀机经台积电验证，性能优良，将用于全球首条5纳米制程生产线。5纳米，相当于头发丝直径（约为0.1毫米）的二万分之一，将成为集成电路芯片上的最小线宽。台积电计划2019年进行5纳米制程试产，预计2020年量产。
▲半导体器件工艺制程从14纳米微缩到5纳，等离子蚀刻步骤会增加三倍
刻蚀机是芯片制造的关键设备之一，曾一度是发达国家的出口管制产品。中微半导体联合创始人倪图强表示，中微与科林研发(Lam Research)、应用材料(Applied Materials)、东京威力科创(Tokyo Electron Limited）、日立全球先端科技 (Hitachi High-Technologies) 4家美日企业，组成了国际第一梯队，为7纳米芯片生产线供应刻蚀机。中微半导体如今通过台积电验证的5纳米刻蚀机，预计能获得比7纳米更大的市场份额。
中科院SP超分辨光刻机
提问者所说的中国光刻机达到世界先进水平，应该是指2018年11月29日通过验收的，由中国科学院光电技术研究所主导、经过近七年艰苦攻关研制的“超分辨光刻装备”项目。
该项目下研制的这台光刻机是“世界上首台分辨力最高的紫外(即22纳米@365纳米)超分辨光刻装备”。这是一种表面等离子体（surfaceplasma，SP）超分辨光刻装备。
▲中科院研制成功并通过验收的SP光刻机
该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片......
中国的刻蚀机的确是达到了世界先进水平，光刻机还早，而且就算是这两样都世界先进了，不代表中国芯片业的前路就不艰辛了。目前中国的刻蚀机的确领先，5纳米等离子体刻蚀机已经通过台积电验证；但是光刻机就差多了，之前新闻报道中提到的“中科院SP超分辨光刻机”其实最多只能算是一个“原型机”，和ASML的光刻机不能相提并论，也不能用来制造芯片，还需要攻克一系列的技术难题退一步讲，就算是中国的光刻机与刻蚀机都达到世界领先就解决问题了么？ASML的EUV光刻机我们已经下单等待交货了，是不是到货以后中国就可以生产7nm甚至是5nm的芯片了不要把问题想简单了，以为芯片也只有光刻机和刻蚀机。芯片制造的技术、经验、工艺以及人才是一个系统性的工程，台积电也不是一天建成的，有了光刻机也不代表我们就能造出最顶尖的芯片。
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时间：2023-10-24 01:15
中国的光刻机还不行，刻蚀机是达到世界先进水平，但两者的技术水平差距很大，就像照相机跟冲印机的区别。光刻机是照相机拍照的，负责把芯片（照片）拍好，拍漂亮，而刻蚀机则负责清洗芯片（冲印照片），光刻机把芯片电路印上去，然后刻蚀机根据印上去的芯片电路图案刻蚀掉有图案（或者没有图案）的部分，留下剩余的部分，两者的技术水平不是一个等级的。
刻蚀机的技术相对光刻机要非常容易，全世界很多大企业，都可以制造比如三星、台积电等等。中国掌握了最先进5nm蚀刻机技术，达到世界先进水平。
光刻机全球只有荷兰ASML（背后有欧美各国电子企业的股份加持）一家最先进的，可以生产7纳米的晶圆芯片，其他国家都在追赶。中国首套90纳米高端光刻机已于近期第一次成功曝光，2022年左右有望完成验收，还要继续追赶。
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时间：2023-10-24 01:16
目前中国的刻蚀机的确领先，5纳米等离子体刻蚀机已经通过台积电验证；但是光刻机就差多了，之前新闻报道中提到的“中科院SP超分辨光刻机”其实最多只能算是一个“原型机”，和ASML的光刻机不能相提并论，也不能用来制造芯片，还需要攻克一系列的技术难题。
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时间：2023-10-24 01:16
因为光刻机水平，与前列相比，路途还很遥远，不能用来制造芯片。
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时间：2023-10-24 01:17
这两者不能混为一谈，中国的芯片制造业还需要很长的一段路，需要国人的认可
